瑞斯普先进

· SH系列抛光垫，原材料采用进口高性能原皮，本产品含有特殊硬质材料及纤维结构，能在研磨抛光期间达到最佳移除率以及平坦化效果，用于粗、中抛阶段的工艺需求。适用于硅晶圆、再生晶圆、各类Ⅲ-Ⅴ族或Ⅱ-Ⅵ族等晶圆，如蓝宝石、砷化镓、氮化铝与碳化硅等材质的抛光工艺。