· 包括抛光粉、抛光液、抛光垫、清洗液等,部分原料采用高性能进口 原材,具有较高的性价比,可以根据客户需求做出调整,适用于各种 磨耗度的光学玻璃、红外晶体、激光晶体等行业。
| 产品分类 | 产品系列 | 产品说明 |
| 抛光垫 | 氧化铈抛光垫 | 性能类似于LP66&LP88 满足低、中及高M磨耗度光学玻璃抛光需求,适用于光学镜头、光学棱镜、盖板玻璃及水晶等光学元件平面抛光需求。 |
|   | 阻尼布抛光垫 | 性能类似于Politex、Fuiibo等阻尼布适用于红外晶体及中高磨耗度光学玻璃的最终镜面抛光。 |
| 抛光粉/抛光液 | 稀土抛光粉R系列 | 瑞斯普稀土抛光粉R系列产品,包括纯铈粉、镧铈粉、含错抛光粉(红粉),适用于光学镜头、光学棱镜、盖板玻璃及水晶等光学元件平面抛光需求。 |
|   | 氧化铝RSC-6系列抛光液 | 瑞斯普精抛液系列产品,适用于蓝玻璃、红外晶体、光学软材质及超软材质等产品的终抛工艺。 |
| 其他 | 研磨剂/悬浮剂 | 系列产品,包括液体双组分、固体单组分研磨剂/悬浮剂,适用于化硅、稀土抛光粉等粉体,可用于光学玻璃的研磨、减薄工艺。 |
|   | 清洗剂 | 包括光学玻璃,红外激光晶体的清洗液,环保、安全、性价比高。 |
| 产品名称 | 产品型号 | D50(um) | D100(um) | 应用领域 |
| 镧铈抛光粉 | R308A | 0.8-1.0 | <4 | 一般光学加工 |
|   | R312A | 1.1-1.5 | <10 | 一般盖板加工、光学加工 |
|   | R311A | 1.0-1.3 | <6 | 光学硬材 |
|   | R322A | 1.8-2.2 | <13 | 光学硬材 |
| 纯铈抛光粉 | R308 | 0.8-1.0 | <4 | 蓝玻璃粗抛 |
|   | R316 | 1.3-1.8 | <10 | 一般光学加工 |
| 少钕抛光粉 | R378 | 0.8-1.0 | <4 | 光学软材 |
|   | R376 | 1.1-1.5 | <10 | 光学软材 |
|   | R366 | 1.1-1.5 | <10 | 光学软材 |